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    四氟化碳是现在微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体，
，，，，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混淆体。。

    1. 可普遍应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜质料的烛刻。。关于硅和二氧化硅系统，
，，，，接纳CF₄-H₂反应离子刻蚀时，
，，，，通过调理两种气体的比例，
，，，，可以获得45：1的选择性，
，，，，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。。

    2. 在电子器件外貌洗濯、太阳能电池的生产、激光手艺、气相绝缘、低温制冷、

走漏磨练剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大宗使用。。

    3. 由于化学稳固性极强，
，，，，CF₄还可以用于金属冶炼和塑料行业等。。

    4. 四氟化碳的溶氧性很好，
，，，，因此被科学家用于超深度潜水实验取代通俗压缩空气。。现在已在老鼠身上获得乐成，
，，，，在275米到366米的深度内，
，，，，小白鼠仍可清静脱险。。