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ÐÂÎÅ×ÊѶ

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Ðû²¼Ê±¼ä£º2021-06-09 | ÓÎÀÀ£º3407

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºµÂ¹úPVA TePla AG¹«Ë¾¡¢ÈÕ±¾Ferrotec¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úQUANTUM DESIGN¹«Ë¾¡¢µÂ¹úGero¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úKAYEX¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£º±±¾©¾©ÔËͨ¡¢ÆßÐÇ»ª´´¡¢±±¾©¾©ÒÇÊÀ¼Í¡¢ºÓ±±¾§ÁúÑô¹â¡¢Î÷°²Àí¹¤¾§¿Æ¡¢³£ÖÝ»ªÊ¢ÌìÁú¡¢ÉϺ£ºººç¡¢Î÷°²»ªµÂ¡¢Öйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®°ËËù¡¢ÉϺ£ÉêºÍÈÈ´Å¡¢ÉÏÓݾ§Ê¢¡¢½ú½­ÄÍÌØ¿Ë¡¢ÄþÏľ§Ñô¡¢³£Öݽ­ÄÏ¡¢ºÏ·Ê¿Æ¾§ÖÊÁÏÊÖÒÕÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢ÉòÑô¿ÆÒǹ«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

2¡¢ÆøÏàÍâÑÓ¯

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºÃÀ¹úCVD Equipment¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úGT¹«Ë¾¡¢·¨¹úSoitec¹«Ë¾¡¢·¨¹úAS¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úProto Flex¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹ú¿ÆÌØ¡¤À³Ë¼¿Æ£¨Kurt J.Lesker£©¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úApplied Materials¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

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3¡¢·Ö×ÓÊøÍâÑÓϵͳ£¨MBE£¬£¬£¬£¬Molecular Beam Epitaxy System£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

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¡¢µÍѹ»¯Ñ§ÆøÏàµí»ýϵͳ£¨ LPCVD £¬£¬£¬£¬ Low Pressure Chemical Vapor Deposition System£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

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6¡¢µÈÀë×ÓÌåÔöÇ¿»¯Ñ§ÆøÏàµí»ýϵͳ£¨PECVD£¬£¬£¬£¬Plasma Enhanced CVD£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

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7¡¢´Å¿Ø½¦Éą̈£¨Magnetron Sputter Apparatus£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºÃÀ¹úPVD¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úVaportech¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úAMAT¹«Ë¾¡¢ºÉÀ¼Hauzer¹«Ë¾¡¢Ó¢¹úTeer¹«Ë¾¡¢ÈðÊ¿Platit¹«Ë¾¡¢ÈðÊ¿Balzers¹«Ë¾¡¢µÂ¹úCemecon¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

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8¡¢»¯Ñ§»úеÅ×¹â»ú£¨CMP£¬£¬£¬£¬Chemical Mechanical Planarization£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºÃÀ¹úApplied Materials¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úŵ·¢ÏµÍ³¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úRtec¹«Ë¾¡¢¡£¡£¡£ ¡£¡£

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9¡¢¹â¿Ì»ú£¨Stepper£¬£¬£¬£¬Scanner£©



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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ººÉÀ¼°¢Ë¹Âó£¨ASML£©¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹ú·ºÁÖ°ëµ¼Ì幫˾¡¢ÈÕ±¾Ä῵¹«Ë¾¡¢ÈÕ±¾Canon¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úABM¹«Ë¾¡¢µÂ¹úµÂ¹úSUSS¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úMYCRO¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£ºÖйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®°ËËù¡¢Öйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®ÎåËù¡¢ÉϺ£»£»£»£»£»úе³§¡¢³É¶¼ÄϹâʵҵ¹É·ÝÓÐÏÞ¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

10¡¢·´Ó¦Àë×Ó¿Ìʴϵͳ£¨RIE£¬£¬£¬£¬Reactive Ion Etch System£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºÈÕ±¾Evatech¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úNANOMASTER¹«Ë¾¡¢ÐÂ¼ÓÆÂREC¹«Ë¾¡¢º«¹úJuSung¹«Ë¾¡¢º«¹úTES¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£º±±¾©ÒÇÆ÷³§¡¢±±¾©ÆßÐÇ»ª´´µç×ÓÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢³É¶¼ÄϹâʵҵ¹É·ÝÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢Öйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®°ËËù¡£¡£¡£ ¡£¡£

11 ¡¢ICP µÈÀë×ÓÌå¿Ìʴϵͳ£¨ ICP, Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching System£©

×°±¸Ãû³Æ£ºICPµÈÀë×ÓÌå¿Ìʴϵͳ¡£¡£¡£ ¡£¡£

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºÓ¢¹úÅ£½òÒÇÆ÷¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úTorr¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úGatan¹«Ë¾¡¢Ó¢¹úQuorum¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úÀûÂü¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úPelco¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£º±±¾©ÒÇÆ÷³§¡¢±±¾©ÆßÐÇ»ª´´µç×ÓÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢Öйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®°ËËù¡¢¸ê333ÌåÓýµÈÀë×ӿƼ¼£¨Ïã¸Û£©¿Ø¹ÉÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢Öйú¿ÆÑ§ÔºÎ¢µç×ÓÑо¿Ëù¡¢±±·½Î¢µç×Ó¡¢±±¾©¶«·½ÖпƼ¯³É¿Æ¼¼¹É·ÝÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢±±¾©´´ÊÀÍþÄɿƼ¼¡£¡£¡£ ¡£¡£

12¡¢Àë×Ó×¢Èë»ú£¨IBI£¬£¬£¬£¬Ion Beam Implanting£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºÃÀ¹úάÀû°²°ëµ¼Ìå×°±¸¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úCHA¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úAMAT¹«Ë¾¡¢Varian°ëµ¼ÌåÖÆÔì×°±¸¹«Ë¾£¨±»AMATÊÕ¹º£©¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£º±±¾©ÒÇÆ÷³§¡¢Öйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®°ËËù¡¢³É¶¼ÄϹâʵҵ¹É·ÝÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢ÉòÑô·½»ùÇṤ»úеÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢ÉϺ£¹èÍØÎ¢µç×ÓÓÐÏÞ¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

13¡¢Ì½Õë²âÊǪ̂£¨VPT£¬£¬£¬£¬Wafer prober Test£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºµÂ¹úIngun¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úQA¹«Ë¾¡¢ÃÀ¹úMicroXact¹«Ë¾¡¢º«¹úEcopia¹«Ë¾¡¢º«¹úLeeno¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£ºÖйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®ÎåËù¡¢±±¾©ÆßÐÇ»ª´´µç×ÓÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢Èð¿ÂÒÇÆ÷¡¢»ªÈÙ¼¯ÍÅ¡¢ÉîÛÚÊÐÉ­ÃÀЭ¶û¿Æ¼¼¡£¡£¡£ ¡£¡£

14¡¢¾§Æ¬¼õ±¡»ú£¨Back-side Grinding£©


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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºÈÕ±¾DISCO¹«Ë¾¡¢µÂ¹úG&N¹«Ë¾¡¢ÈÕ±¾OKAMOTO¹«Ë¾¡¢ÒÔÉ«ÁÐCamtek¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£ºÀ¼ÖÝÀ¼Ð¸߿Ƽ¼¹¤Òµ¹É·ÝÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢ÉîÛÚ·½´ïÑÐÄ¥×°±¸ÖÆÔìÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢ÉîÛÚÊнðʵÁ¦Ï¸ÃÜÑÐÄ¥»úÐµÖÆÔìÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢ì¿°²´ïÑÐÄ¥×°±¸ÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢ÉîÛÚÊлªÄê·ç¿Æ¼¼ÓÐÏÞ¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

15¡¢¾§Ô²»®Æ¬»ú£¨DS£¬£¬£¬£¬Die Sawwing£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºµÂ¹úOEG¹«Ë¾¡¢ÈÕ±¾DISCO¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£ºÖйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®ÎåËù¡¢±±¾©¿Æ´´Ô´¹âµçÊÖÒÕÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢ÉòÑôÒÇÆ÷ÒÇ±í¹¤ÒÕÑо¿Ëù¡¢Î÷±±»úеÓÐÏÞ¹«Ë¾£¨Ô­¹úÓªÎ÷±±»úе³§709³§£©¡¢»ãÊ¢µç×Óµç×Ó»úеװ±¸¹«Ë¾¡¢À¼ÖÝÀ¼Ð¸߿Ƽ¼¹¤Òµ¹É·ÝÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢¸»¼Ò¼¤¹â¡¢ÉîÛÚÊк챦ʯ¼¤¹â×°±¸ÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢Î人Èý¹¤¡¢Ö麣À³Áª¹âµç¡¢Ö麣ÔÁï¿Æ¼¼¡£¡£¡£ ¡£¡£

16¡¢ÒýÏß¼üºÏ»ú£¨Wire Bonder£©

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Ö÷ÒªÆóÒµ£¨Æ·ÅÆ£©£º

¹ú¼Ê£ºÃÀ¹ú°ÂÌ©¹«Ë¾¡¢µÂ¹úTPT¹«Ë¾¡¢°ÂµØÀû°ÂµØÀûFK¹«Ë¾¡¢ÂíÀ´Î÷ÑÇÓÑÄáÉ­£¨UNISEM£©¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡£

º£ÄÚ£ºÖйúµç×ӿƼ¼¼¯ÍŵÚËÄÊ®ÎåËù¡¢±±¾©´´ÊÀ½Ü¿Æ¼¼Éú³¤ÓÐÏÞ¹«Ë¾¡¢Óîо£¨³É¶¼£©¼¯³Éµç··â×°²âÊÔÓÐÏÞ¹«Ë¾£¨ÂíÀ´Î÷ÑÇÓÑÄáɭͶ×Ê£©¡¢ÉîÛÚÊпª¾Á×Ô¶¯»¯×°±¸ÓÐÏÞ¹«Ë¾¡£¡£¡£ ¡£¡££¨ÐÂÖÊÁÏÔÚÏߣ©


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